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鹵素氧彈測(cè)試前處理裝置使用注意事項(xiàng)
2024-03-12 來自: 鶴壁市華晨電子科技有限公司 瀏覽次數(shù):860
鹵素氧彈測(cè)試前處理裝置使用注意事項(xiàng)簡(jiǎn)介：
1、無論何時(shí)都應(yīng)避免交替測(cè)量高濃度和低濃度鹵素含量。
2、氧彈內(nèi)表面的離子殘留痕跡很難沖洗，且觀察到殘留的元素會(huì)有從一個(gè)樣品傳遞到另一個(gè)樣品的傾向。
3、含有高濃度的鹵素的樣品在低濃度樣品之前測(cè)試時(shí)，下個(gè)樣品應(yīng)重復(fù)試驗(yàn)。
4、獲得一個(gè)或兩個(gè)較低的值時(shí)，如果它們不符合本方法的再現(xiàn)性的限值時(shí)，應(yīng)當(dāng)認(rèn)為是可疑的，每個(gè)樣品之間加入一個(gè)空白試驗(yàn)是一種良好的操作，非被分析的一系列樣品的濃度相似。
5、當(dāng)樣品的組分或均勻性未知時(shí)，需要是重復(fù)分析樣品或三次分析樣品，然后報(bào)告時(shí)取所有測(cè)量的平均值。 注： 收集消耗氣體的殘留以及隨后空白樣品的吸收液是有意義的。
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